过程控制装置及调整过程控制装置中控制器的工作参数的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种过程控制装置和控制系统,它观察在控制在控制回路中的过程的设定值与来自过程过程控制变量之间的偏移波形,使得工作参数根据基于波形的每半周的绝对值的所得的偏移,按照预定的调整规则调整工作参数。因此,如果过程受控变量受到扰动,则波形面积不会明显变化,结果工作参数可被正确调整,从而使过程受控变量迅速与设定点相一致。
基本信息
专利标题 :
过程控制装置及调整过程控制装置中控制器的工作参数的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1046230A
申请号 :
CN90101526.1
公开(公告)日 :
1990-10-17
申请日 :
1990-03-20
授权号 :
CN1057852C
授权日 :
2000-10-25
发明人 :
齐藤忠良立花幸治高桥进横川信幸野村政英松本弘下田诚官垣久典远山荣二
申请人 :
株式会社日立制作所
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
杨晓光
优先权 :
CN90101526.1
主分类号 :
G05B11/42
IPC分类号 :
G05B11/42 G05B13/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05B
一般的控制或调节系统;这种系统的功能单元;用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B11/00
自动控制器
G05B11/01
电的
G05B11/36
具有为获得特定性能的装置,例如比例、积分、微分
G05B11/42
为获得比例和与时间有关的两个特性的,例如,比例积分,比例积分微分
法律状态
2004-05-19 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-04-24 :
其他有关事项
2000-10-25 :
授权
1991-09-18 :
实质审查请求已生效的专利申请
1990-10-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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