在聚合过程中防止聚合物积垢的方法
专利申请的视为撤回
摘要
一种防止带烯双键单体在聚合期间生成的聚合物结垢而沉积于聚合釜里的方法，该聚合反应在内壁已经先涂敷过涂敷液并干燥形成涂层的聚合釜中进行，涂敷液含有(A)单宁和(B)水溶性聚合物。一种包含组分(A)和组分(B)的防垢剂；一种内壁具有上述涂层的聚合釜。它可以有效地防止聚合物结垢而沉积于聚合釜的内壁等上面。
基本信息
专利标题 ：
在聚合过程中防止聚合物积垢的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1045399A
申请号 ：
CN90101976.3
公开（公告）日 ：
1990-09-19
申请日 ：
1990-03-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金子一郎清水敏秀上野進渡边幹雄
申请人 ：
信越化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
黄家伟
优先权 ：
CN90101976.3
主分类号 ：
C08F2/44
IPC分类号 ：
C08F2/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F2/00
聚合工艺过程
C08F2/44
在配料的存在下聚合，例如增塑剂、染料、填充剂
法律状态
1997-08-20 ：
专利申请的视为撤回
1992-05-20 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1990-09-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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