在光聚合物中形成反射全息图的全息光学元件
专利申请的视为撤回
摘要
公开了含有反射全息图的改进的全息成像光学元件，也公开了用于形成反射全息图的改进的方法。
基本信息
专利标题 ：
在光聚合物中形成反射全息图的全息光学元件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1050620A
申请号 ：
CN90103341.3
公开（公告）日 ：
1991-04-10
申请日 ：
1990-06-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
戴伦·尤金·基斯威廉·卡尔·斯马瑟斯艾伯特·弗兰克林·哈林顿雅各·比尤特尔斯科特·罗伯特·希克狄龙·福斯特·斯科菲尔德
申请人 ：
纳幕尔杜邦公司
申请人地址 ：
美国特拉华州
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
汪洋
优先权 ：
CN90103341.3
主分类号 ：
G03F7/09
IPC分类号 ：
G03F7/09 G03F7/027 G03F7/032 G03H1/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
法律状态
1993-03-24 ：
专利申请的视为撤回
1991-07-10 ：
发明专利公报更正
更正 卷 : 7 号 : 15 页码 : 50 更正项目 : 优先权 误 : 无 正 : 1989.06.22 US 370,274
1991-04-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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