制作反射全息图的方法与系统
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及一种制作反射全息图的方法和系统，特别是从模版的圆柱形表面制作反射全息图的方法和系统。它设置了一些装置，以便把大致为单色的光化学辐射投射使之通过对该辐射敏感而且被耦合到模版圆柱表面上的记录介质，以使该辐射在模版上的入射角大致恒定。
基本信息
专利标题 ：
制作反射全息图的方法与系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1047402A
申请号 ：
CN90103525.4
公开（公告）日 ：
1990-11-28
申请日 ：
1990-05-16
授权号 ：
CN1023914C
授权日 ：
1994-03-02
发明人 ：
马克·利曼·阿姆斯特朗丹尼尔·詹姆斯·米基什
申请人 ：
纳幕尔杜邦公司
申请人地址 ：
美国特拉华州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
马铁良
优先权 ：
CN90103525.4
主分类号 ：
G03H1/04
IPC分类号 ：
G03H1/04 G03H1/18 G03H1/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03H
全息摄影的工艺过程或设备
G03H1/00
应用光波、红外波或紫外波取得全息图或由此获得图像的全息摄影工艺过程或设备；及其特殊的零部件
G03H1/04
产生全息图的工艺过程或设备
法律状态
1996-07-03 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1994-03-02 ：
授权
1992-08-26 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1990-11-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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