红外光控恒流双喷电解抛光机
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
红外光控恒流双喷电解抛光机。本实用新型包括抛光工作部分和控制部分，工作部分的喷嘴前端设有铂金丝，后端设有红外线发射(接收)管，控制部分装置于箱壳上，设有3个电阻和2个开关的箱体中，其恒流电路主要由一块集成电路板构成。可用于透射电子显微镜的金属薄膜样品制样，它将原恒压型装置改进为恒流光控，故有抗干扰能力强、灵敏度高、响应速度快、可靠性强、寿命长的优点，可方便地根据需要控制孔眼的大小，使制备样品的成功率提高到90％以上。
基本信息
专利标题 ：
红外光控恒流双喷电解抛光机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN90209676.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1990-06-30
授权号 ：
CN2077449U
授权日 ：
1991-05-22
发明人 ：
韦滇昆
申请人 ：
昆明钢铁公司
申请人地址 ：
云南省安宁县
代理机构 ：
云南省专利事务所
代理人 ：
范严生
优先权 ：
CN90209676.1
主分类号 ：
C25F3/16
IPC分类号 ：
C25F3/16 C25F7/00 G01N1/32
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
法律状态
1993-05-26 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1992-02-19 ：
授权
1991-05-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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