X射线聚束光刻法及其装置
专利申请的视为撤回
摘要
从金属等离子体中发射的脉冲X射线，一部分进入由玻璃光导管组成的聚束透镜，其收集角达10—30°，玻璃光导管内径360μm，两端为直线段，中部为曲线段。X射线进入光导管后在管壁上多次全反射，最后以准平行光出射。数千根光导管按照收集角的要求及照野大小排列成阵，改变其长度和位置分布可以得到均匀照野或特定要求的照野。从聚束器出射的X射线，经过一段距离的交叉混合形成均匀分布的准平行束，投射到光刻工作台上，将掩膜上的图形投影到晶片的光刻胶层上，完成亚微米光刻过程。
基本信息
专利标题 ：
X射线聚束光刻法及其装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1067121A
申请号 ：
CN91103079.4
公开（公告）日 ：
1992-12-16
申请日 ：
1991-05-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
颜一鸣
申请人 ：
北京师范大学
申请人地址 ：
100875北京市新街口外大街19号
代理机构 ：
北京师范大学专利事务所
代理人 ：
华明达
优先权 ：
CN91103079.4
主分类号 ：
G03F7/213
IPC分类号 ：
G03F7/213 H05G2/00 G02B6/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
G03F7/213
用同一光学图像使同一表面的不同位置上同时曝光
法律状态
1997-08-20 ：
专利申请的视为撤回
1992-12-16 ：
公开
1991-09-11 ：
实质审查请求已生效的专利申请
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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