三低级烷氧基苯衍生物
专利权的视为放弃
摘要

本发明涉及由一般式(I)(见摘要附图)(式中:R1、R2及R3可相同或不同,为低级烷基。A为由表示的基团。R4及R5可相同或不同,为低级烷基、芳烷基或芳基。但R4和R5与邻接氮原子连成一体,可形成吡咯烷基、哌啶子基、吗啉代基、硫代吗啉基或者4位由低级烷基取代的哌嗪基)表示的三低级烷氧基苯衍生物、其盐、其光学活性体或其溶剂化物、含这些化合物的医药组合物、这些化合物的制备方法。本发明化合物用作肺表面活性物质分泌促进剂。

基本信息
专利标题 :
三低级烷氧基苯衍生物
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1061218A
申请号 :
CN91109520.9
公开(公告)日 :
1992-05-20
申请日 :
1991-10-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
原弘丸山龙也齐藤宗敏间濑年康
申请人 :
山之内制药株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
上海专利事务所
代理人 :
全永留
优先权 :
CN91109520.9
主分类号 :
C07C237/20
IPC分类号 :
C07C237/20  C07D295/145  A61K31/165  A61K31/395  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C237/00
羧酸酰胺,酸部分的碳架进一步被氨基取代
C07C237/02
羧酰胺基的碳原子连接在碳架的非环碳原子上
C07C237/20
碳架含有六元芳环
法律状态
2001-04-11 :
专利权的视为放弃
1994-01-19 :
实质审查请求的生效
1992-05-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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