三低级烷氧基苯衍生物

专利权的终止未缴年费专利权终止

摘要

本发明涉及由一般式(I)(见摘要附图)(式中：R1、R2及R3可相同或不同，为低级烷基。A为由-CH-或-N-表示的基团。R4及R5可相同或不同，为低级烷基、芳烷基或芳基。但R4和R5与邻接氮原子连成一体，可形成吡咯烷基、哌啶子基、吗啉代基、硫代码啉基或者4位由低级烷基取代的哌嗪基)表示的三低级烷氧基苯衍生物、其盐、其光学活性体或其溶剂化物、含这些化合物的医药组合物、这些化合物的制备方法，本发明化合物用作肺表面活性物质分泌促进剂。

基本信息

专利标题：

三低级烷氧基苯衍生物

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1116200A

申请号：

CN95100367.4

公开（公告）日：

1996-02-07

申请日：

1991-10-25

授权号：

CN1034570C

授权日：

1997-04-16

发明人：

原弘丸山龙也齐藤宗敏间濑年康

申请人：

山之内制药株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

上海专利商标事务所

代理人：

陈文青

优先权：

CN95100367.4

主分类号：

C07C233/11

IPC分类号：

C07C233/11 C07D295/145