磁光记录的方法、设备及介质

专利权的终止(未缴年费专利权终止)

摘要

本发明推出了在直接改写的磁光记录中不需要初始化磁场、对介质材料成分的限制较少的磁光记录的方法、设备和介质。这种介质有两层交换耦合的RE-TM非晶层(存储层和基准层)。这两层的居里温度几乎相同，而其中只有一层是无补偿温度的富RE层。这两层直接叠合，或中间夹有一层不妨碍交换■合的中间层。在记录前，先将基准层沿一个方向磁化。能量脉冲从存储层侧射入，使得基准层温度在记录一种位数据时仍保持低于它的居里温度，而在记录另一种位数据时达到它的居里温度。

基本信息

专利标题：

磁光记录的方法、设备及介质

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1063573A

申请号：

CN91111738.5

公开（公告）日：

1992-08-12

申请日：

1991-12-20

授权号：

CN1023264C

授权日：

1993-12-22

发明人：

大朋子

申请人：

国际商业机器公司

申请人地址：

美国纽约

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利代理部

代理人：

杨国旭

优先权：

CN91111738.5

主分类号：

G11B11/10

IPC分类号：

G11B11/10

IPC结构图谱

G部——物理

G11

信息存储

G11B

基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储

G11B11/00

利用列入G11B3/00至G11B7/00的不同大组的或列入大组G11B9/00的不同小组的方法或装置在同一记录载体上进行记录或重现的；为此所用的记录载体

G11B11/10

使用激磁或退磁进行记录的

法律状态

2010-02-17 ：

专利权的终止(未缴年费专利权终止)

2006-04-05 ：

专利申请权、专利权的转移专利权的转移

变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 国际商业机器公司
变更后权利人 : 联发科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国纽约
变更后权利人 : 台湾省新竹科学工业园区
登记生效日 : 20060224

2002-06-12 ：

其他有关事项

1993-12-22 ：

授权

1992-08-12 ：

公开

1992-06-10 ：

实质审查请求已生效的专利申请

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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