日光曝晒制版法及其装置
专利申请的驳回
摘要
本发明是关于日光曝晒制版法及其装置，属于曝晒制版法领域。该装置是由晒图箱10、透明胶片17、网架18以及胶垫24所构成。先在透明胶片17表面以不透光的墨水或颜料绘制所需制版的图案以及网布23表面均匀涂敷制版剂后依次将透明胶片17、网架18、胶垫24置入下框内且将晒图箱10盖合，下框12朝上接受日光曝光，曝光取出网架18并放入清水中轻轻摇动，从而获得与透明胶片相应图案的显现。
基本信息
专利标题 ：
日光曝晒制版法及其装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1076035A
申请号 ：
CN92108340.8
公开（公告）日 ：
1993-09-08
申请日 ：
1992-02-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
洪帝坤
申请人 ：
洪帝坤
申请人地址 ：
中国台湾省
代理机构 ：
中国科学院上海专利事务所
代理人 ：
潘振甦
优先权 ：
CN92108340.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
1998-05-20 ：
专利申请的驳回
1994-04-27 ：
实质审查请求的生效
1993-09-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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