储存稳定的聚硅氧烷组合物、其制备方法及用途
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
储存稳定的聚硅氧烷组合物由下列组分组成：(A)含具有脂族双键的聚硅氧烷组分和贵金属催化剂，和(B)含具有Si-H基团和若合适时还含脂族双键的聚硅氧烷组合物，不含贵金属催化剂而含具有与(聚)硅氧烷基体化学结合的亚烷基醚单元的(聚)硅氧烷基体的亲水改性剂，和i)在组分(A)中所含的具有脂族双键的基团，和/或ii)在组分(B)中所含的Si-H基团和/或具有脂族双键的基团。储存稳定的聚硅氧烷组合物适于作为齿印模组合物使用。
基本信息
专利标题 ：
储存稳定的聚硅氧烷组合物、其制备方法及用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1070206A
申请号 ：
CN92110249.6
公开（公告）日 ：
1993-03-24
申请日 ：
1992-08-31
授权号 ：
CN1035952C
授权日 ：
1997-09-24
发明人 ：
海恩茨·赫夫纳米夏埃尔·斯特普彼得·休伯约翰·米勒理查德·施密德科费尔阿诺尔德·加哈默
申请人 ：
瓦克化学有限公司
申请人地址 ：
联邦德国慕尼黑
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
程伟
优先权 ：
CN92110249.6
主分类号 ：
C08L83/04
IPC分类号 ：
C08L83/04 A61K6/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L83/00
由只在主链中形成含硅的，有或没有硫、氮、氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物；此种聚合物的衍生物的组合物
C08L83/04
聚硅氧烷
法律状态
2004-10-27 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-06-12 ：
其他有关事项
1997-09-24 ：
授权
1994-12-14 ：
实质审查请求的生效
1993-03-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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