锡-钴复合镀层的制备方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明公开了一种以锡-钴为基质金属的复合镀层制备方法，它使用下述组分的镀液：氯化亚锡20～35g/L、氯化钴10～20g/L、焦磷酸钾250～350g/L、碳化硅和氮化硼混和微粒2～5g/L、“代铬-90”20～40ml/L，所述碳化硅和氮化硼混和微粒由粒径小于0.5微米的碳化硅和氮化硼按3∶1的比例混和制成。采用本发明制备的镀层外表光亮，酷似铬镀层，而且有较高的硬度和抗蚀性好等优点，可广泛应用于装饰性电镀中。
基本信息
专利标题 ：
锡-钴复合镀层的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1074957A
申请号 ：
CN92112372.8
公开（公告）日 ：
1993-08-04
申请日 ：
1992-10-28
授权号 ：
CN1029633C
授权日 ：
1995-08-30
发明人 ：
唐致远郭鹤桐严立泉
申请人 ：
天津大学
申请人地址 ：
300072天津市七里台
代理机构 ：
天津大学专利代理事务所
代理人 ：
江镇华
优先权 ：
CN92112372.8
主分类号 ：
C25D15/00
IPC分类号 ：
C25D15/00 C25D15/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D15/00
含嵌入材料，例如颗粒、须、丝之覆层的电解或电泳生产
法律状态
1996-12-11 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1995-08-30 ：
授权
1993-08-04 ：
公开
1993-07-28 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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