高性能辐射屏蔽透明材料及其制造方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及一种辐射屏蔽透明材料及其制造技术。该材料是在偶氮类或过氧化物类热引发剂、紫外线吸收剂存在，以及增塑剂、脱模剂、染料等可能存在的条件下，以甲基丙烯酸烷基酯类单体中的至少一种为主要成份，特别添加了适量的甲基丙烯酸钡以及饱和或／和不饱和脂肪酸，混合均匀，经本体聚合而成。其本体聚合制造工艺则采用一步工艺法，用时８～１０小时。本发明材料强度大、硬度高、耐辐照，且同时可防Ｘ射线和紫外线辐射。
基本信息
专利标题 ：
高性能辐射屏蔽透明材料及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1088348A
申请号 ：
CN92114030.4
公开（公告）日 ：
1994-06-22
申请日 ：
1992-12-15
授权号 ：
CN1048108C
授权日 ：
2000-01-05
发明人 ：
段谨源张兴祥于俊林王学晨齐鲁
申请人 ：
天津纺织工学院
申请人地址 ：
300160天津市河东区程林庄路63号
代理机构 ：
纺织专利咨询服务中心
代理人 ：
李济群
优先权 ：
CN92114030.4
主分类号 ：
G21F1/10
IPC分类号 ：
G21F1/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F1/00
以材料组分为特征的防护物
G21F1/02
均匀的防护材料的选择
G21F1/10
有机物质，在有机载体中的弥散
法律状态
2001-02-07 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2000-01-05 ：
授权
1995-05-17 ：
实质审查请求的生效
1994-06-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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