中子辐射屏蔽透明材料及其制造方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
中子辐射屏蔽透明材料由具有一般式为：其中R1为氢或甲基，R2为2-3个碳原子的烷基，R3为4-8个碳原子的烷基的含硼活性硼酸酯均聚物或是以含硼活性硼酸酯为一种单体与甲基丙烯酸烷基酯或苯乙烯中任意一种为另一种单体共聚而成的含硼量为0.5-4％(重量)，最好为2-3％(重量)的共聚物。
基本信息
专利标题 ：
中子辐射屏蔽透明材料及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1087441A
申请号 ：
CN92113357.X
公开（公告）日 ：
1994-06-01
申请日 ：
1992-11-28
授权号 ：
CN1032832C
授权日 ：
1996-09-18
发明人 ：
段谨源张兴祥于俊林王学晨金剑
申请人 ：
天津纺织工学院
申请人地址 ：
300160天津市河东区程林庄道63号
代理机构 ：
天津市专利事务所
代理人 ：
杨忠民
优先权 ：
CN92113357.X
主分类号 ：
G21F1/10
IPC分类号 ：
G21F1/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F1/00
以材料组分为特征的防护物
G21F1/02
均匀的防护材料的选择
G21F1/10
有机物质，在有机载体中的弥散
法律状态
1998-01-21 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1996-09-18 ：
授权
1995-02-22 ：
实质审查请求的生效
1994-06-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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