光掩模板

专利权的终止

摘要

公开了一种透光埋置相移器光掩模板，其包括光学上不均匀衰减薄膜，该膜有至少0.001的透光度和基本上由金属组分和电介质组分组合而成。薄膜的一个表面有比另一表面较高含量的金属组分，贯穿整个薄膜厚度，消光系数变化的分布呈缓变状态。选择消光系数变化的分布和薄膜厚度，在选定波长的情况下，提供大约180°的相移(或者它的奇数倍相移)。

基本信息

专利标题：

光掩模板

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1091210A

申请号：

CN93112904.4

公开（公告）日：

1994-08-24

申请日：

1993-11-16

授权号：

CN1099613C

授权日：

2003-01-22

发明人：

Ｈ·Ｕ·阿尔普莱Ｒ·Ｈ·弗伦奇Ｆ·Ｄ·卡尔克

申请人：

杜邦光掩公司

申请人地址：

美国德克萨斯州

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

魏金玺

优先权：

CN93112904.4

主分类号：

G03F1/14

IPC分类号：

G03F1/14

法律状态

2011-01-19 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101032504010
IPC(主分类) : G03F 1/14
专利号 : ZL931129044
申请日 : 19931116
授权公告日 : 20030122
终止日期 : 20091216

2003-07-23 ：

专利申请权、专利权的转移专利权的转移

变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 杜邦光掩公司
变更后权利人 : 肖特石版印刷技术股份公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国德克萨斯州
变更后权利人 : 联邦德国耶拿
登记生效日 : 20030411

2003-05-28 ：

专利申请权、专利权的转移专利权的转移

2003-01-22 ：

授权

1998-09-30 ：

著录项目变更

变更事项 : 申请人
变更前 : 纳幕尔杜邦公司
变更后 : 杜邦光掩公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国特拉华州
变更后 : 美国得克萨斯州

1996-02-14 ：

实质审查请求的生效

1994-08-24 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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