除草的喹啉基噁二唑衍生物,它们的制备方法和含有它们的除草...
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及下述式（Ⅰ）的新的喹啉基__二唑衍生物，它们的制备方法和它们用作除草剂和植物生长调节剂的用途，特别是它们在水稻存在下选择性地杀死和防治稗草的用途。$其中，$A和B选自由氢，卤素和Ｃ1-C３低级烷基组成的一组基团；Ｒ为Ｃ３-C４烷基或环烷基，苯基，吡啶基，苯甲基，苯氧烷基或苯基硫烷基，且这些基团中的芳基可选择地被１—３个选自卤素，Ｃ１-C４烷基，Ｃ１-C４烷氧基，Ｃ１-C４烷硫基，Ｃ２-C６烷氧烷基和它的类似基团组成的一组取代基取代。
基本信息
专利标题 ：
除草的喹啉基噁二唑衍生物,它们的制备方法和含有它们的除草组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1087087A
申请号 ：
CN93117394.9
公开（公告）日 ：
1994-05-25
申请日 ：
1993-08-14
授权号 ：
CN1040437C
授权日 ：
1998-10-28
发明人 ：
柳应杰郑谨会李元熙金在宁洪璟植
申请人 ：
韩国化学研究所
申请人地址 ：
韩国大田直辖市
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
李瑛
优先权 ：
CN93117394.9
主分类号 ：
C07D413/10
IPC分类号 ：
C07D413/10 A01N43/82
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D413/00
杂环化合物，含两个或更多个杂环，至少有1个环有氮原子和氧原子作为仅有的杂环原子
C07D413/02
含两个杂环
C07D413/10
被含芳环的碳链连接的
法律状态
2001-10-03 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1998-10-28 ：
授权
1995-07-26 ：
实质审查请求的生效
1994-05-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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