新的低聚HALS亚磷酸酯和HALS亚膦酸酯，及其组合物和...
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
新的式Ⅰ低聚化合物，其中Ｌ代表下式基团：其中基团Ⅰ中的氧原子与结构重复单元中的磷原子相连，且基团Ｌ中的R5或哌啶环的４-位上碳原子与结构重复单元中的氧原子相连结，其它符号的定义同权利要求１所述，该低聚化合物可作为保护有机材料抗氧化，热或光诱导降解的稳定剂。
基本信息
专利标题 ：
新的低聚HALS亚磷酸酯和HALS亚膦酸酯，及其组合物和其对有机材料抗氧、热、光诱导降解的用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1092785A
申请号 ：
CN93120897.1
公开（公告）日 ：
1994-09-28
申请日 ：
1993-12-03
授权号 ：
CN1036928C
授权日 ：
1998-01-07
发明人 ：
Ｒ·比特劳德
申请人 ：
希巴特殊化学控股公司
申请人地址 ：
瑞士巴塞尔
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
唐伟杰
优先权 ：
CN93120897.1
主分类号 ：
C08G79/04
IPC分类号 ：
C08G79/04 C07F9/59
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G79/00
在高分子主链中，由形成含除硅、硫、氮、氧及碳以外的原子的键合反应得到的高分子化合物
C08G79/02
含磷键合
C08G79/04
与氧相连或与氧及碳相连的磷
法律状态
2001-01-24 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1998-01-07 ：
授权
1997-08-13 ：
著录项目变更
变更事项 : 申请人
变更前 : 希巴盖吉股份公司
变更后 : 希巴特殊化学控股公司
变更前 : 希巴盖吉股份公司
变更后 : 希巴特殊化学控股公司
1996-02-21 ：
实质审查请求的生效
1994-09-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
