结晶评价装置及结晶评价方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
结晶的评价装置和观察方法。装置特征是具有含阳极和阴极的容器、向容器提供阳极氧化膜形成水溶液和阳极氧化膜去除水溶液的机构以及在容器内有微型扫描探头的扫描式探头显微镜。观察方法至少有半导体衬底阳极氧化形成氧化膜、氟酸／氟化氨混合液去膜和原子力显微镜观察该衬底等过程。几乎无物理影响，去膜选择性高，能观察原子级缺陷形状，测定衬底表面杂质浓度分布。
基本信息
专利标题 ：
结晶评价装置及结晶评价方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1104770A
申请号 ：
CN93121614.1
公开（公告）日 ：
1995-07-05
申请日 ：
1993-12-27
授权号 ：
CN1076474C
授权日 ：
2001-12-19
发明人 ：
藤井真治布施玄秀井上森雄
申请人 ：
松下电气产业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
上海专利商标事务所
代理人 ：
汪瑜
优先权 ：
CN93121614.1
主分类号 ：
G01N21/88
IPC分类号 ：
G01N21/88 G01N33/00 G01N15/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2006-02-22 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2001-12-19 ：
授权
2001-10-10 ：
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 松下电子工业株式会社
变更后权利人 : 松下电气产业株式会社
登记生效日 : 20010712
变更前权利人 : 松下电子工业株式会社
变更后权利人 : 松下电气产业株式会社
登记生效日 : 20010712
1995-07-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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