采用洗净剂的洗净方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明洗净方法所用洗净剂可代替氟系洗净剂，不会污染或破坏环境，具安全和稳定性。洗净对象为金属、玻璃、陶瓷、电子、半导体、光学以及表面处理等部件。所用洗净剂包括选自直链聚二有机硅氧烷和环状聚二有机硅氧烷中至少一种的低分子量聚有机硅氧烷、含聚氧亚烷基的聚有机硅氧烷、表面活性剂、水，或亲水性溶剂。在洗净工序和漂洗工序中可同时对其废液进行回收、再生。在精细洗净工序中进行最终洗净、将残留表面的洗净液置换并使其干燥。
基本信息
专利标题 ：
采用洗净剂的洗净方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1103113A
申请号 ：
CN94104357.6
公开（公告）日 ：
1995-05-31
申请日 ：
1990-10-25
授权号 ：
CN1042353C
授权日 ：
1999-03-03
发明人 ：
稻田实冠木公明今城康隆小国尚之八木典章齐藤信宏栗田明嗣竹泽好昭
申请人 ：
东芝硅株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
杨丽琴
优先权 ：
CN94104357.6
主分类号 ：
C23G5/032
IPC分类号 ：
C23G5/032 C11D7/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23G
电解法除外的化学法金属材料清洗及除油
C23G5/00
金属材料用其他方法清洗或除油；金属材料用有机溶剂清洗或除油的设备
C23G5/02
用有机溶剂
C23G5/032
含有含氧化合物的
法律状态
2006-12-20 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1999-03-03 ：
授权
1998-09-30 ：
著录项目变更
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川
变更后 : 日本东京都
变更事项 : 申请人
变更前 : 株式会社东芝
变更后 : 东芝硅株式会社
变更前 : 日本神奈川
变更后 : 日本东京都
变更事项 : 申请人
变更前 : 株式会社东芝
变更后 : 东芝硅株式会社
1995-05-31 ：
公开
1995-05-10 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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