过程控制的方法和设备
专利申请的视为撤回
摘要

为了检查光学母盘上的光敏剂层被显像液显像的过程,使一透明体与显像液(14)相接触。然后,将来自光源的光束入射到光学母盘上,并且使衍射光束经过显像液和透明体射到探测器上。这样,衍射光束的光径是稳定的。最好是通过反射从入射光束中获得衍射光束,并且该衍射光束最好是第一阶衍射光束。入射光束还最好是经过调制的。然后,靠监控探测器(9)所探测到的衍射光束(8)的变化,来监控光敏剂层的显像过程。

基本信息
专利标题 :
过程控制的方法和设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1120866A
申请号 :
CN94191725.8
公开(公告)日 :
1996-04-17
申请日 :
1994-04-05
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
杰拉尔德·A·J·雷诺兹乔纳森·哈利德
申请人 :
光轮通讯国际有限公司
申请人地址 :
英国格温特
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
郑中军
优先权 :
CN94191725.8
主分类号 :
G03F7/30
IPC分类号 :
G03F7/30  G11B7/26  G01N21/89  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
1999-08-11 :
专利申请的视为撤回
1996-06-26 :
实质审查请求的生效
1996-04-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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