流体处理系统和方法

专利权的终止

摘要

一种流体处理系统，包括一个或多个排列在处理区内的辐照区中的辐射源，要处理的流体通过处理区并接受辐照。辐照区有一个闭合的横截面以将流体保持在距辐射源预定的最大距离之内。优选辐照区包括一个减小的垂直于流体流动方向的截面，从而可以提高流体流过辐照区时的速度。这样使得流体以较低的速度进入处理区而以较高的速度通过辐照区，再以较低的速度流出处理区，以尽量减少整个系统的压头损失。进入处理区的流体在进入辐照区之前先通过截面面积减少的进口过渡区，且出辐照区的流体通过一个截面面积增加的出口过渡区。每个过渡区都设计成当流体流速增加或减少时降低压头损失。在辐照区，辐射源被安装在辐射组件上，辐射组件的排列方式提高了维修的便利。辐射组件也可以拥有清洗组合件，当辐射源在辐照区中时清洗组合件能够原位清除污染辐射源的物质。$

基本信息

专利标题：

流体处理系统和方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1121320A

申请号：

CN94191814.9

公开（公告）日：

1996-04-24

申请日：

1994-03-04

授权号：

CN1081947C

授权日：

2002-04-03

发明人：

Ｊ·Ｍ·马斯查克韦德

申请人：

特洛伊人技术公司

申请人地址：

加拿大安大略省

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

罗宏

优先权：

CN94191814.9

主分类号：

B01J19/12

IPC分类号：

B01J19/12 C02F1/32