自动稳定化学浴的系统
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种能从化学浴中定期地除去金属离子和污染物的自动化系统,其中包括一台微处理机,它可控制泵和阀门的流动回路,首先将第一份预定数量的化学浴从第一槽中循环流过一个离子交换柱并回到第一槽;再将去离子水从第二槽循环进入IEX柱以便顶替走其中的残留化学浴,使其回到第一槽;将去离子水循环流过IEX柱;将再生剂酸经过离子交换树脂循环将去离子水经过IEX柱循环,以便冲洗其中的酸再生剂;将化学浴循环送入IEX柱中,顶替走其中残留的冲洗水,为化学浴的处理循环作准备。
基本信息
专利标题 ：
自动稳定化学浴的系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1281909A
申请号 ：
CN99104039.2
公开（公告）日 ：
2001-01-31
申请日 ：
1994-01-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
W·G·科泽克J·C·托平
申请人 ：
亨凯尔公司
申请人地址 ：
美国宾西法尼亚
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
龙传红
优先权 ：
CN99104039.2
主分类号 ：
C25D21/22
IPC分类号 ：
C25D21/22 B01J47/02 B01J49/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/16
处理液的再生
C25D21/22
离子交换法
法律状态
2004-07-14 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2001-01-31 ：
公开
2001-01-03 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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