不同折射率膜层的制备方法
专利权的终止
摘要
本发明属于光学薄膜技术领域，本发明涉及一种实现不同折射率膜层的制备方法，制备过程中，采用高真空下双枪电子束同时蒸镀高、低折射率膜料实现，折射率在高、低两种材料之间连续可变，通过控制两种膜料的淀积速率比精确调节淀积膜层的折射率值，该方法可以制备许多自然界不存在的折射率膜层，制备方法简单可行，而且不受膜料的熔点等性能的限制。
基本信息
专利标题 ：
不同折射率膜层的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1936069A
申请号 ：
CN200510086464.X
公开（公告）日 ：
2007-03-28
申请日 ：
2005-09-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
谭满清周代兵
申请人 ：
中国科学院半导体研究所
申请人地址 ：
100083北京市海淀区清华东路甲35号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
段成云
优先权 ：
CN200510086464.X
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/54 C23C14/08 C23C14/14
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2010-12-01 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101020696331
IPC(主分类) : C23C 14/30
专利号 : ZL200510086464X
申请日 : 20050922
授权公告日 : 20090527
终止日期 : 20091022
号牌文件序号 : 101020696331
IPC(主分类) : C23C 14/30
专利号 : ZL200510086464X
申请日 : 20050922
授权公告日 : 20090527
终止日期 : 20091022
2009-05-27 ：
授权
2007-05-23 ：
实质审查的生效
2007-03-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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