折射率变化元件和折射率变化方法
专利权的终止
摘要
提供一种折射率变化元件和折射率变化方法。折射率变化元件包括：包含具有离散能级的多个量子点和包围量子点的介电基体的结构部；和通过介电基体将电子注入量子点的电子注入部。
基本信息
专利标题 ：
折射率变化元件和折射率变化方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1755427A
申请号 ：
CN200510107611.7
公开（公告）日 ：
2006-04-05
申请日 ：
2005-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
都鸟显司吉村玲子相贺史彦多田宰
申请人 ：
株式会社东芝
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
岳耀锋
优先权 ：
CN200510107611.7
主分类号 ：
G02F1/00
IPC分类号 ：
G02F1/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
法律状态
2017-11-10 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02F 1/017
申请日 : 20050929
授权公告日 : 20080611
终止日期 : 20160929
申请日 : 20050929
授权公告日 : 20080611
终止日期 : 20160929
2008-06-11 ：
授权
2006-05-31 ：
实质审查的生效
2006-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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