基于金属纳米缝的光束控制方法
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摘要
基于金属纳米缝的光束控制方法，根据所需功能器件(聚焦、偏光、发散等)出射光场的要求，计算元件出射面各点的位相分布φi(xi)；以金属银作为金属膜材料，确定入射波长在银膜中趋肤深度；以加工能力对应的最小线宽ωi作为出射面位相最大值处的金属缝开孔，以该线宽对应的最大加工深度作为金属膜厚度d，以金属膜厚度d和出射光场位相分布为基础，计算出射光场各点模式传播常数βi(xi)；逐次计算出射面其他各点处的金属缝开孔大小ωi(xi)最后以位相最大值处为出发点，趋肤深度为金属缝间距，计算相邻缝的缝宽。本发明能够实现偏折、分光、聚焦等功能的，且可在出射面实现任意位相分布。
基本信息
专利标题 ：
基于金属纳米缝的光束控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1752832A
申请号 ：
CN200510086699.9
公开（公告）日 ：
2006-03-29
申请日 ：
2005-10-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王长涛史浩飞杜春雷罗先刚
申请人 ：
中国科学院光电技术研究所
申请人地址 ：
610209四川省成都市双流350信箱
代理机构 ：
北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人 ：
刘秀娟
优先权 ：
CN200510086699.9
主分类号 ：
G02F1/29
IPC分类号 ：
G02F1/29 G02F1/35
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/29
用于光束的位置或方向的控制，即偏转
法律状态
2009-12-30 ：
授权
2008-03-19 ：
实质审查的生效
2006-03-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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