连续批量制备金刚石膜的制备系统

专利权的终止

摘要

本发明针对目前的CVD金刚石制备时效率低、成本高的问题，设计了一种连续批量制备金刚石膜的制备系统，其特征是在壳体(26)中、衬底工作台(1)的周围安装有衬底仓库(8)，机械手(3)与伸缩杆(27)一端相连，伸缩杆(27)中安装有拉杆(28)，拉杆(28)的一端与机械手(3)的执行机构(301)相螺接，另一端安装有手轮(17)；金属软管(11)的一端与锥形孔(29)周围的壳体(26)密封相连，另一端与伸缩杆(27)密封相连；在壳体(26)上开有透明密闭观察窗(30)。保证了CVD金刚石膜的连续沉积和碳化后的灯丝连续使用，降低了灯丝的消耗，减少了重新安装灯丝、抽真空、碳化灯丝、真空室充气等时间，提高了金刚石膜的制备效率，降低了CVD金刚石膜的制造成本。

基本信息

专利标题：

连续批量制备金刚石膜的制备系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1752277A

申请号：

CN200510094828.9

公开（公告）日：

2006-03-29

申请日：

2005-10-14

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

左敦稳卢文壮徐锋黎向锋余亚平王珉

申请人：

南京航空航天大学

申请人地址：

210016江苏省南京市御道街29号

代理机构：

南京天华专利代理有限责任公司

代理人：

瞿网兰

优先权：

CN200510094828.9

主分类号：

C23C16/27

IPC分类号：

C23C16/27 C23C16/458

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C16/00

通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺

C23C16/22

以沉积金属材料以外之无机材料为特征的

C23C16/26

仅沉积碳

C23C16/27

仅沉积金刚石

法律状态

2014-12-10 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101591111864
IPC(主分类) : C23C 16/27
专利号 : ZL2005100948289
申请日 : 20051014
授权公告日 : 20080514
终止日期 : 20131014

2010-07-14 ：

专利实施许可合同备案的生效、变更及注销

专利实施许可合同备案的生效号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101003241716
IPC(主分类) : C23C 16/27
专利申请号 : 2005100948289
专利号 : ZL2005100948289
合同备案号 : 2010320000532
让与人 : 南京航空航天大学
受让人 : 盐城市阳标石油机械有限公司
发明名称 : 连续批量制备金刚石膜的制备系统
申请日 : 20051014
公开日 : 20060329
授权公告日 : 20080514
许可种类 : 独占许可
备案日期 : 20100505

2008-05-14 ：

授权

2006-05-24 ：

实质审查的生效

2006-03-29 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

CN100387752C.PDF

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2、

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