光学级CVD金刚石膜片的制备系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种光学级CVD金刚石膜片的制备系统，包括反应室，反应室内的上部安装有等离子炬，反应室内的下部设置有沉积区；等离子炬外周设置有励磁线圈；等离子炬与励磁线圈之间具有间隙；反应室外周设置有冷却腔；冷却腔主体成U形；冷却腔的U形两侧区域一直延伸至离子炬与励磁线圈之间的间隙内形成冷却用的通道；冷却腔内螺旋分布设置有冷却管，冷却管内有冷却水；沉积区内可升降设置有升降台；升降台上方转动设置有基盘；基盘底面中央固定设置有基座。本实用新型所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，操作方便，适用于制备光学级CVD金刚石膜片。
基本信息
专利标题 ：
光学级CVD金刚石膜片的制备系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021310823.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-07
授权号 ：
CN213142181U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
裴珍玉张代涛
申请人 ：
天津市宝利欣超硬材料有限公司
申请人地址 ：
天津市北辰区科技园区淮河道地天泰工业园内C座
代理机构 ：
天津企兴智财知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒋宏洋
优先权 ：
CN202021310823.1
主分类号 ：
C23C16/27
IPC分类号 ：
C23C16/27 C23C16/458 C23C16/52 C23C16/503
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
C23C16/27
仅沉积金刚石
法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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