梯度孔冷却和射频屏蔽件
专利权的终止
摘要

一种用于成像一体积(20)的磁共振成像(MRI)设备(200)包括用于产生磁场的主磁体,被形成在沿轴延伸的管中的绝缘体片(140),被放置在限定该管的外表面,用于操作由该主磁场产生的磁场以成像该体积(20)的梯度线圈(50),以及被放置在该梯度线圈(50)和RF线圈(72)之间的冷却回路(302)。该冷却回路(302)被放置在限定该管的相对内表面,其中该冷却回路(302)屏蔽该梯度线圈(50)免受该RF线圈(72)的影响同时冷却该梯度线圈(50)。

基本信息
专利标题 :
梯度孔冷却和射频屏蔽件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1763558A
申请号 :
CN200510108692.2
公开(公告)日 :
2006-04-26
申请日 :
2005-10-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
C·M·西雷尔
申请人 :
通用电气公司
申请人地址 :
美国纽约州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
肖春京
优先权 :
CN200510108692.2
主分类号 :
G01R33/32
IPC分类号 :
G01R33/32  G01R33/38  G01R33/385  G01R33/42  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/20
涉及磁共振
G01R33/28
G01R33/44到G01R33/64各组中仪器的零部件
G01R33/32
激励或检测系统,例如用射频信号
法律状态
2015-12-09 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101636686863
IPC(主分类) : G01R 33/32
专利号 : ZL2005101086922
申请日 : 20051020
授权公告日 : 20100616
终止日期 : 20141020
2010-06-16 :
授权
2007-12-05 :
实质审查的生效
2006-04-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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