显示器件及其制造方法
授权
摘要
本发明将提供发光元件下部产生的凹凸对发光元件无坏影响的显示器件的制造方法作为课题。或者将提供能减小水通过透潮性大的膜渗入显示器件内部而工序数不大量增加的显示器件的制造方法作为课题。或者将提供可同时满足该两个课题要求的显示器件及其制造方法作为课题。能解决所述课题的本发明显示器件在衬底上形成的绝缘表面上具有薄膜晶体管和发光元件，发光元件将发光叠层体夹在第1电极与第2电极之间，在薄膜晶体管上形成的第1绝缘膜上形成第1电极，并且在第1电极和绝缘膜之间与第1电极对应地形成第1平坦化膜。
基本信息
专利标题 ：
显示器件及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1779984A
申请号 ：
CN200510108747.X
公开（公告）日 ：
2006-05-31
申请日 ：
2005-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
坂仓真之山崎舜平
申请人 ：
株式会社半导体能源研究所
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
沈昭坤
优先权 ：
CN200510108747.X
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32 H01L27/15 H01L21/82 H05B33/12 H05B33/04 H05B33/10
法律状态
2009-10-14 ：
授权
2007-12-05 ：
实质审查的生效
2006-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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