微型显示器的制造方法
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摘要
一种微型显示器的制造方法，首先提供一晶片，晶片上已形成有驱动电路。然后，于晶片上形成金属反射层，接着，于金属反射层上依序形成抗反射层与图案化的光致抗蚀剂层，之后，以图案化的光致抗蚀剂层为蚀刻掩模，于抗反射层与金属反射层中形成沟渠图案，以曝露出晶片表面。随后，再移除图案化的光致抗蚀剂层。然后，形成介电层以覆盖抗反射层，且填入沟渠图案中。接着，移除部分介电层与抗反射层，直至曝露出金属反射层表面。
基本信息
专利标题 ：
微型显示器的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1949455A
申请号 ：
CN200510113379.8
公开（公告）日 ：
2007-04-18
申请日 ：
2005-10-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吴沂庭陈世鸿蔡怀萱郑志鸿蔡健华陈炫旭
申请人 ：
联华电子股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学工业园区
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200510113379.8
主分类号 ：
H01L21/00
IPC分类号 ：
H01L21/00 G02F1/133
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2009-09-23 ：
授权
2007-06-13 ：
实质审查的生效
2007-04-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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