一种化学机械抛光设备的抛光头的清洗装置
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明公开一种化学机械抛光设备的抛光头的清洗装置，包括清洗剂供给设施、支架和支架喷嘴；还包括抛光头间隙清洗喷嘴；该间隙清洗喷嘴喷出的清洗剂的喷射方向对准抛光头的定位环和膜层之间的间隙。优选地，该清洗装置还包括挠性连接器件，其一端连接该间隙清洗喷嘴，另一端连接至支架或清洗剂供给设施。本发明能够有效地对化学机械抛光设备的抛光头的间隙处残留的颗粒进行清洗。
基本信息
专利标题 ：
一种化学机械抛光设备的抛光头的清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1981991A
申请号 ：
CN200510111388.3
公开（公告）日 ：
2007-06-20
申请日 ：
2005-12-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李强李福洪姚宇李宁
申请人 ：
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请人地址 ：
201203上海市浦东新区张江路18号
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
逯长明
优先权 ：
CN200510111388.3
主分类号 ：
B24B55/00
IPC分类号 ：
B24B55/00 B24B37/04 H01L21/304
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B55/00
用于磨床或抛光机的安全装置；配合磨床或抛光机使磨具或机械部件保持良好工作状态的附件
法律状态
2009-05-06 ：
发明专利申请公布后的驳回
2007-08-15 ：
实质审查的生效
2007-06-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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