本实用新型公开一种化学机械抛光设备的清洗装置，包括：输入口，用于接收经化学机械研磨的晶圆；超声波清洗池，用于对晶圆进行超声波清洗；第一刷洗池，用于对晶圆的两个表面进行刷洗；第二刷洗池，用于对晶圆的两个表面进行刷洗；干燥间，用于干燥晶圆；输出口，用于将晶圆从清洗装置中取出；干燥晶舟，用于暂时存放输出口传送的经干燥的晶圆，并传输给化学机械抛光系统的晶圆存放箱。本实用新型化学机械抛光设备的清洗装置能够避免当化学机械抛光系统的晶圆存放箱出现故障时，晶圆长时间浸泡于清洗液内以及晶圆暴露于空气中。