生成遮光带和透光带GDSII数据的方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明公开了一种生成遮光带和透光带GDSII数据的方法，首先利用各个芯片的尺寸，各个芯片的横向个数，各个芯片的纵向个数，各个芯片的排列方式要素推算出遮光带和透光带的各个顶点的坐标，然后将所述的顶点的坐标直接转换为相应的GDSII数据。本发明可以消除因手动操作产生的失误，提高设计效率。适用于半导体集成电路工艺中掩模板制作。
基本信息
专利标题 ：
生成遮光带和透光带GDSII数据的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1983022A
申请号 ：
CN200510111428.4
公开（公告）日 ：
2007-06-20
申请日 ：
2005-12-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张兴州周京英孙长江
申请人 ：
上海华虹NEC电子有限公司
申请人地址 ：
201206上海市浦东新区川桥路1188号
代理机构 ：
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 ：
丁纪铁
优先权 ：
CN200510111428.4
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2010-01-27 ：
发明专利申请公布后的驳回
2007-08-15 ：
实质审查的生效
2007-06-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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