用于支撑和/或热调节基底、支撑台和夹盘的设备和方法
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摘要
公开了一种包括用于支撑基底的支撑台的设备。该支撑台包括在使用中用于支撑基底的多个接触基底的支撑突起。支撑台包括多个传热突起，当基底由支撑突起支撑时，该传热突起在使用中朝基底延伸但是不接触基底。用于和基底进行热交换的含有气体的换热间隙在传热突起和基底之间延伸。
基本信息
专利标题 ：
用于支撑和/或热调节基底、支撑台和夹盘的设备和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1804725A
申请号 ：
CN200510113862.6
公开（公告）日 ：
2006-07-19
申请日 ：
2005-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·J·S·M·梅坦斯A·L·H·J·范米尔J·J·奥坦斯E·A·M·范戈佩
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
原绍辉
优先权 ：
CN200510113862.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00 H01L21/68 B25B11/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2011-08-17 ：
授权
2007-10-24 ：
实质审查的生效
2006-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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