光学膜及其制作方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种光学膜及其制作方法，其利用溶剂铸膜技术将混掺的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)均匀混合在溶剂中以形成一湿膜，并利用加热上述湿膜以形成一光学干膜，其中特别是至少一种PMMA、被取代官能基的PMMA或PMMA混掺；以及溶剂，该PMMA、该被取代官能基的PMMA或该PMMA混掺可依所需性质以任意比例均匀混合在该溶剂中以形成一混合溶液，该混合溶液经过热处理后形成光学膜。
基本信息
专利标题 ：
光学膜及其制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1959440A
申请号 ：
CN200510118586.2
公开（公告）日 ：
2007-05-09
申请日 ：
2005-10-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李光荣王丹青庄毓蕙
申请人 ：
力特光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾桃园县平镇市平东路659巷37号
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
陈肖梅
优先权 ：
CN200510118586.2
主分类号 ：
G02B1/04
IPC分类号 ：
G02B1/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/04
由有机材料制成的
法律状态
2009-07-15 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-07-04 ：
实质审查的生效
2007-05-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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