光学器件制作方法
公开
摘要

本发明提供了一种光学器件制作方法,采用掩膜体将因第二器件粘接在第一器件上使第二器件周边溢出的胶覆盖并将掩膜体配置为正对所述第二器件正面的部分为透光区域,除所述透光区域之外的其他区域为不透光区域,所述不透光区域部分或全部与第一器件的正面覆盖;本发明通过掩膜板和掩膜体在第一器件的上方安装,使第二器件能够满足曝光要求,进而第二器件与第一器件之间的胶水凝固,同时第二器件与第一器件交界面上的胶水溢出流至第一器件的表面,由此利用第一器件上的掩膜体将溢出的胶水遮挡,避免出现胶水在第一器件的表面曝光凝固后影响整体的成像清晰度。

基本信息
专利标题 :
光学器件制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114624843A
申请号 :
CN202210311237.6
公开(公告)日 :
2022-06-14
申请日 :
2022-03-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
谈顺毅
申请人 :
上海慧希电子科技有限公司
申请人地址 :
上海市杨浦区国霞路458弄2号501室
代理机构 :
上海段和段律师事务所
代理人 :
李源
优先权 :
CN202210311237.6
主分类号 :
G02B7/02
IPC分类号 :
G02B7/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B7/00
光学元件的安装、调整装置或不漏光连接
G02B7/02
用于透镜
法律状态
2022-06-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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