低损耗有机聚合物阵列波导光栅的蒸汽回溶制备方法
专利权的终止
摘要

本发明涉及一种有机聚合物阵列波导光栅制备方法。在硅衬底上旋涂有机聚合物波导下包层和芯层材料并分别进行烘干固化;蒸发或溅射金属膜,进行光刻和氧反应离子刻蚀,将图形之外的有机聚合物波导芯层刻蚀掉;放入有机蒸汽中,控制温度和时间,使有机聚合物波导芯层侧壁粗糙部分逐渐溶化而变得光滑;腐蚀掉金属层,旋涂有机聚合物波导上包层材料,烘干固化得到低损耗有机聚合物阵列波导光栅波分复用/解复用器。由于采用本发明的蒸汽回溶技术,减小了有机聚合物阵列波导光栅的波导侧壁粗糙度,有效地降低了由于波导侧壁粗糙引起的散射损耗,从而制作出了低损耗有机聚合物阵列波导光栅波分复用/解复用器件,使阵列波导光栅的总损耗减小了5-10dB。

基本信息
专利标题 :
低损耗有机聚合物阵列波导光栅的蒸汽回溶制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1896783A
申请号 :
CN200510119060.6
公开(公告)日 :
2007-01-17
申请日 :
2005-12-08
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张大明鄂书林张海明邓文渊张希珍
申请人 :
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 :
130031吉林省长春市东南湖大路16号
代理机构 :
长春科宇专利代理有限责任公司
代理人 :
梁爱荣
优先权 :
CN200510119060.6
主分类号 :
G02B6/124
IPC分类号 :
G02B6/124  H04J14/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导;包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/10
光波导式的
G02B6/12
集成光路类型
G02B6/122
基本光学元件,例如,传导光的光路
G02B6/124
短程透镜或集成光栅
法律状态
2011-02-16 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101037106660
IPC(主分类) : G02B 6/124
专利号 : ZL2005101190606
申请日 : 20051208
授权公告日 : 20080813
终止日期 : 20100108
2008-08-13 :
授权
2008-07-23 :
实质审查的生效
2007-01-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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