从基体表面去除粘性材料的方法、处理液体和装置
专利权的终止
摘要
[目的]从基体表面去除有机粘性材料的处理液、处理方法和去除装置，其可以在室温去除甚至因高剂量离子注入而硬化和变质的抗蚀膜，其提供了碳酸亚乙酯处理的环保性，并利用臭氧再生使该处理能重复进行。[解决方式](1)从基体表面去除有机粘性材料的方法，其中将表面上带有有机粘性材料的基体与含有重量比范围为85/15至55/45的碳酸亚乙酯和γ－丁内酯混合溶剂的处理液接触，以剥离所述粘性材料。(2)从基体表面去除有机粘性材料的处理液，包含0－5重量％的臭氧与混合溶剂的反应产物和有机粘性材料与臭氧的反应产物的组合，所述混合溶剂是重量比为85/15到55/45的碳酸亚乙酯和γ－丁内酯的混合溶剂，其中该处理液的余下组分是该所述混合溶剂。(3)从基体表面去除有机粘性材料的装置，包括：A)输送以碳酸亚乙酯和γ－丁内酯为主要组分的混合溶剂的处理液至处理
基本信息
专利标题 ：
从基体表面去除粘性材料的方法、处理液体和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1808286A
申请号 ：
CN200510121594.2
公开（公告）日 ：
2006-07-26
申请日 ：
2005-10-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
村冈久志野崎正
申请人 ：
皮瑞克斯股份有限公司;UMS有限公司
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
韦欣华
优先权 ：
CN200510121594.2
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42 B08B3/00 C09D9/00 C11D7/26
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
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G03F
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G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2013-12-04 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101550522286
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2005101215942
申请日 : 20051018
授权公告日 : 20100120
终止日期 : 20121018
号牌文件序号 : 101550522286
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2005101215942
申请日 : 20051018
授权公告日 : 20100120
终止日期 : 20121018
2010-05-12 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101001719027
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2005101215942
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 自然技术循环生态有限公司
变更后权利人 : UMS有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本神奈川县
变更后权利人 : 日本神奈川县
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : UMS有限公司
变更后权利人 : 无
登记生效日 : 20100406
号牌文件序号 : 101001719027
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2005101215942
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 自然技术循环生态有限公司
变更后权利人 : UMS有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本神奈川县
变更后权利人 : 日本神奈川县
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : UMS有限公司
变更后权利人 : 无
登记生效日 : 20100406
2010-05-12 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101001719026
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2005101215942
变更事项 : 专利权人
变更前 : 皮瑞克斯股份有限公司
变更后 : 自然技术循环生态有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川县
变更后 : 日本神奈川县
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : UMS有限公司
变更后 : UMS有限公司
号牌文件序号 : 101001719026
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2005101215942
变更事项 : 专利权人
变更前 : 皮瑞克斯股份有限公司
变更后 : 自然技术循环生态有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川县
变更后 : 日本神奈川县
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : UMS有限公司
变更后 : UMS有限公司
2010-01-20 ：
授权
2007-10-24 ：
实质审查的生效
2006-07-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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