去除真空镀膜层的处理方法
专利权的终止
摘要

本发明提供一种去除真空镀膜层的处理方法,其中,处理方法至少包括如下步骤:步骤一:将所需去除镀膜产品在酸和双氧水的溶液中浸泡;步骤二:将产品放置在清水中浸泡,以去除残留在产品上的镀膜和溶液。将产品表面的金属膜层在溶液中浸泡可以快速洗去镀膜层,使产品回复素材状况重新加工。所用原料成本低,易获得,并且废液处理简单环保。

基本信息
专利标题 :
去除真空镀膜层的处理方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1986892A
申请号 :
CN200510120992.2
公开(公告)日 :
2007-06-27
申请日 :
2005-12-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
覃飞祥闵晓波
申请人 :
佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司
申请人地址 :
528308广东省佛山市顺德区伦教集约工业区科技路1号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200510120992.2
主分类号 :
C23G1/00
IPC分类号 :
C23G1/00  C23G1/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23G
电解法除外的化学法金属材料清洗及除油
C23G1/00
用溶液或熔融盐清洗或酸洗金属材料
法律状态
2013-02-27 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101399345779
IPC(主分类) : C23G 1/00
专利号 : ZL2005101209922
申请日 : 20051222
授权公告日 : 20100414
终止日期 : 20111222
2010-04-14 :
授权
2007-08-22 :
实质审查的生效
2007-06-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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