去除设备、保护膜成形设备、基板处理系统和去除方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种去除设备、保护膜成形设备、基板处理系统和去除方法，其中，涂布处理单元在形成有抗蚀膜的基板的表面上形成具有能溶解于碱水溶液中的成分的覆盖膜。该涂布处理单元能供应在显影处理单元中使用的显影剂，作为用于去除粘附于基板的周边的覆盖膜成分的去除剂。因此，可以在不影响抗蚀膜的情况下选择性地从基板的周边去除覆盖膜。
基本信息
专利标题 ：
去除设备、保护膜成形设备、基板处理系统和去除方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1755525A
申请号 ：
CN200510106478.3
公开（公告）日 ：
2006-04-05
申请日 ：
2005-09-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金山幸司茂森和士
申请人 ：
大日本网目版制造株式会社
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 ：
王玉双
优先权 ：
CN200510106478.3
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/30 G03F7/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2009-11-04 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-05-23 ：
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 大日本网目版制造株式会社
变更后权利人 : 株式会社迅动
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本京都府
变更后权利人 : 日本京都
登记生效日 : 20070427
变更前权利人 : 大日本网目版制造株式会社
变更后权利人 : 株式会社迅动
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本京都府
变更后权利人 : 日本京都
登记生效日 : 20070427
2006-05-31 ：
实质审查的生效
2006-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1755525A.PDF
PDF下载
