潜像叠对量测方法

发明专利申请公布后的视为撤回

PDF下载

摘要

公开了一种用于改善的潜像叠对量测的装置和方法。在一个实施例中，采用散射计和过度曝光的叠对目标物来得到更稳健的重叠性测量。叠对量测和曝光可并行地进行。

基本信息

专利标题：

潜像叠对量测方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1920670A

申请号：

CN200510127112.4

公开（公告）日：

2007-02-28

申请日：

2005-11-21

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

A·J·登博夫J·布格胡恩M·杜萨A·G·M·基尔斯M·范德沙尔

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

杨松龄

优先权：

CN200510127112.4

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027

相关图片

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2010-07-21 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003339686
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2005101271124
公开日 : 20070228

2008-01-23 ：

实质审查的生效

2007-02-28 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

文件下载

1、

CN1920670A.PDF

PDF下载