用于记录角度复用凹坑的设备
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种用于记录角度复用凹坑的设备。该设备使用用于产生非对称强度分布的记录光束的装置(1)在光记录介质上记录角度复用凹坑。根据本发明，用于产生非对称强度分布的光束的装置(1)具有至少一个光影响部件(3)，所述光影响部件(3)用于在所述光束的第一半中相对于所述光束的第二半引入180°的相移，其中，所述光束的第一半和所述光束的第二半之间的边界可围绕所述光束的光轴旋转。
基本信息
专利标题 ：
用于记录角度复用凹坑的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1805020A
申请号 ：
CN200510127201.9
公开（公告）日 ：
2006-07-19
申请日 ：
2005-11-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
乔基姆·尼特尔哈特马特·里克特斯蒂芬·纳普曼
申请人 ：
汤姆森特许公司
申请人地址 ：
法国布洛涅
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
马高平
优先权 ：
CN200510127201.9
主分类号 ：
G11B7/00
IPC分类号 ：
G11B7/00 G11B7/0045 G11B7/135
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B7/00
用光学方法，例如，用光辐射的热射束记录用低功率光束重现的；为此所用的记录载体
法律状态
2018-01-05 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G11B 7/00
申请日 : 20051118
授权公告日 : 20100414
终止日期 : 20161118
申请日 : 20051118
授权公告日 : 20100414
终止日期 : 20161118
2010-04-14 ：
授权
2008-01-02 ：
实质审查的生效
2006-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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