用于暴露记录头上主极的样品准备方法和系统
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种用于样品准备的方法。该方法包括机械地抛光嵌入在样品结构内的记录头的主极上的绝缘层的一部分。垂直与所述主极邻接的气垫面以平坦层的形式从上向下抛光该绝缘层。该方法还包括选择性湿蚀刻所述绝缘层的剩余部分从而暴露所述主极，其中所述绝缘层包围所述主极。进行蚀刻而没有损坏所述主极。
基本信息
专利标题 ：
用于暴露记录头上主极的样品准备方法和系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1831510A
申请号 ：
CN200510131703.9
公开（公告）日 ：
2006-09-13
申请日 ：
2005-12-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
菲利普·J·彼得森莫妮卡·L·瓦尔加斯
申请人 ：
日立环球储存科技荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰阿姆斯特丹
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
李晓舒
优先权 ：
CN200510131703.9
主分类号 ：
G01N1/28
IPC分类号 ：
G01N1/28 G01N1/32 G11B5/187
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样；制备测试用的样品
G01N1/28
测试用样品的制备
法律状态
2009-11-18 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-11-08 ：
实质审查的生效
2006-09-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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