配向膜印刷掩模用架具及利用该架具清洗配向膜印刷掩模的装置...
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摘要
配向膜印刷掩模用架具及利用该架具清洗配向膜印刷掩模的装置和方法。本发明涉及一种配向膜印刷掩模，更具体地，涉及一种用于配向膜印刷掩模的架具。根据本发明的架具包括多个支撑件，各个支撑件都具有至少一个弯曲部分，这些支撑件沿所述配向膜印刷掩模的宽度方向按预定间隔排列以支撑所述配向膜印刷掩模；至少一个连接件，用于连接所述支撑件；以及紧固部分，用于固定通过所述支撑件支撑的所述配向膜印刷掩模。
基本信息
专利标题 ：
配向膜印刷掩模用架具及利用该架具清洗配向膜印刷掩模的装置和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1885108A
申请号 ：
CN200510132689.4
公开（公告）日 ：
2006-12-27
申请日 ：
2005-12-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
文喆住
申请人 ：
LG.菲利浦LCD株式会社
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄纶伟
优先权 ：
CN200510132689.4
主分类号 ：
G02F1/1333
IPC分类号 ：
G02F1/1333 G02F1/1337 G02F1/1339 G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2008-09-03 ：
授权
2007-02-14 ：
实质审查的生效
2006-12-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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