一种可吸收剩余电子束的辐照装置
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摘要

本发明公开了一种可吸收剩余电子束的辐照装置,属于辐射加工技术领域。它包括电子直线加速器,与电子直线加速器连接的电子束漂移扫描架,置于电子束漂移扫描架下方、可放置受辐照物的机械传送机构。其结构特点是,在电子束漂移扫描架的正下方、机械传送机构的底部置有电子束吸收器。电子束吸收器与电子直线加速器之间通过导线连接形成电子学回路,使热量传导。使用本发明,可降低电子束辐照装置中防护层的厚度,节省成本,减小体积与重量,防止电荷与热量的局部累积,实现电子束辐照装置的自屏蔽和小型化,可进一步扩大电子束辐照装置的应用范围。

基本信息
专利标题 :
一种可吸收剩余电子束的辐照装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1992097A
申请号 :
CN200510136316.4
公开(公告)日 :
2007-07-04
申请日 :
2005-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
唐华平刘耀红张东生阎忻水高建军高峰刘晋升贾玮印炜张丹谷冲
申请人 :
清华大学;清华同方威视技术股份有限公司
申请人地址 :
100083北京市清华同方科技广场A座2907
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200510136316.4
主分类号 :
G21K5/00
IPC分类号 :
G21K5/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K5/00
照射装置
法律状态
2009-08-12 :
授权
2007-08-29 :
实质审查的生效
2007-07-04 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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