一种用于控制电子束辐照剂量的屏蔽装置
授权
摘要
本实用新型提供一种用于控制电子束辐照剂量的屏蔽装置，包括：底板；支架；多个支柱，将支架固定于底板的上方；液体容器，安置于支架上，包括：容器主体；容器顶板；固定件，用于以高度可调的方式将容器顶板固定在容器主体上；和任选地，液位计，设置在容器主体的外侧，其中容器主体和容器顶板之间容纳液体。
基本信息
专利标题 ：
一种用于控制电子束辐照剂量的屏蔽装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020006877.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-02
授权号 ：
CN211654330U
授权日 ：
2020-10-09
发明人 ：
刘保杰肖丹崔爱军张立锋朱志斌
申请人 ：
中国原子能科学研究院
申请人地址 ：
北京市房山区新镇三强路1号院
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张成新
优先权 ：
CN202020006877.2
主分类号 ：
G21F3/00
IPC分类号 ：
G21F3/00 G21F1/02 G21K5/10 G21K5/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F3/00
以其物理形态或材料的形状为特征的防护物
法律状态
2020-10-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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