一种适用于高剂量电子束辐照屏蔽装置
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摘要
一种适用于高剂量电子束辐照屏蔽装置，包括密闭的屏蔽壳，屏蔽壳内设有空腔，屏蔽壳内壁设有由屏蔽材料制成的中央隔板和分隔板，中央隔板将空腔分隔为辐照腔和过料腔，分隔板将过料腔分隔为入料腔和出料腔；屏蔽壳的外表面设有与入料腔连通的入料通道以及与出料腔连通的出料通道，中央隔板上设有第一过料通道和第二过料通道，入料腔和出料腔内均设有第一导向辊；辐照腔设有电子束加速器、位于电子加速器左侧的束流吸收板、位于束流吸收板左侧的束下屏蔽板以及两个第二导向辊，两个第二导向辊之间的卷材从电子加速器和束流吸收板之间穿过，第一过料通道和第二过料通道均位于束下屏蔽板左侧。本实用新型可以维持电子束辐照时所需的气体环境并保障屏蔽效果。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于高剂量电子束辐照屏蔽装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921745499.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-17
授权号 ：
CN211125065U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
孔超陈立任杰李林
申请人 ：
中山易必固新材料科技有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区九沙路6号3幢五层A区
代理机构 ：
北京金之桥知识产权代理有限公司
代理人 ：
林建军
优先权 ：
CN201921745499.3
主分类号 ：
G21K5/10
IPC分类号 ：
G21K5/10 G21F3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K5/00
照射装置
G21K5/10
具有在束流源与被照射物体有相对运动的设备
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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