一种以氧化硅为主体的中孔材料的制备方法
专利权的终止
摘要
本发明涉及一种高水热稳定性的、孔径均匀的、以氧化硅为主体的中孔材料的制备方法，其特征在于首先水热合成微孔分子筛前驱体，再将前驱体与模板剂以及NaOH混合并回流，然后利用无机酸调节溶解物的pH值，在一定条件下晶化一段时间，可以得到高水热稳定性的中孔材料，粒度为20－500纳米。经550℃焙烧后，该材料的比表面积为300～1500m2/g、孔容为0.1～1.5cm3/g，孔径为2～10nm。经过100℃沸水处理312小时后，此材料仍然保持着90％以上的比表面积和孔容。
基本信息
专利标题 ：
一种以氧化硅为主体的中孔材料的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1990381A
申请号 ：
CN200510136598.8
公开（公告）日 ：
2007-07-04
申请日 ：
2005-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘子玉刘中民魏迎旭齐越许磊
申请人 ：
中国科学院大连化学物理研究所
申请人地址 ：
116023辽宁省大连市中山路457号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
周长兴
优先权 ：
CN200510136598.8
主分类号 ：
C01B33/18
IPC分类号 ：
C01B33/18 C01B39/00 C01B37/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/113
氧化硅；其水合物
C01B33/12
硅石；其水合物，如勒皮硅酸
C01B33/18
既非溶胶态又非凝胶态的细分散硅石的制备；其后处理
法律状态
2017-02-22 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101705176805
IPC(主分类) : C01B 33/18
专利号 : ZL2005101365988
申请日 : 20051230
授权公告日 : 20081008
终止日期 : 20151230
号牌文件序号 : 101705176805
IPC(主分类) : C01B 33/18
专利号 : ZL2005101365988
申请日 : 20051230
授权公告日 : 20081008
终止日期 : 20151230
2008-10-08 ：
授权
2007-08-29 ：
实质审查的生效
2007-07-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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