基于聚降冰片烯的双轴光学膜及其制备方法,具有该膜的复合光...
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摘要

本发明提供了一种制备基于聚降冰片烯的双轴光学膜的方法,其包括:通过在含有高沸点溶剂和低沸点溶剂的混合溶剂中溶解基于聚降冰片烯的聚合物制备含有基于聚降冰片烯的聚合物的组合物,所述两种溶剂的沸点相差20℃或更大,且基于所述基于聚降冰片烯的聚合物的重量,高沸点溶剂的量为0.1~15wt%;浇注并部分干燥该组合物,以制得基于所述基于聚降冰片烯的膜的总重量含有1~6wt%的混合溶剂的基于聚降冰片烯的膜;以及在低于或等于高沸点溶剂的沸点+20℃的拉伸温度下沿平行于该膜表面的一个方向单轴拉伸部分干燥的膜,并在高于或等于高沸点溶剂的沸点的温度下干燥该拉伸膜。根据所述的制备双轴基于聚降冰片烯的膜的方法,可制得具有良好的透光性和均匀的面内延迟值并可起到负C-片和A-片两种作用的补偿膜。

基本信息
专利标题 :
基于聚降冰片烯的双轴光学膜及其制备方法,具有该膜的复合光学补偿偏振片及其制备方法,以及包括该膜和/或该偏振片的液晶显示面板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1946776A
申请号 :
CN200580012245.5
公开(公告)日 :
2007-04-11
申请日 :
2005-11-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
金源国全成浩白京林别利亚夫·谢尔盖耶马里姆嫩科·尼古拉
申请人 :
LG化学株式会社
申请人地址 :
韩国首尔
代理机构 :
北京金信立方知识产权代理有限公司
代理人 :
朱梅
优先权 :
CN200580012245.5
主分类号 :
C08J5/18
IPC分类号 :
C08J5/18  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08J
加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理
C08J5/00
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
C08J5/18
薄膜或片材的制造
法律状态
2011-08-03 :
授权
2007-06-06 :
实质审查的生效
2007-04-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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