光学补偿膜及其制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明是有关于一种光学补偿膜及其制造方法。C+A板型光学补偿膜的制造方法，其特征在于：依所需性质以任意比例将不含氟的双苯环结构聚亚酰胺(PI)均匀溶解在溶剂中，将此溶液以涂布方式涂布于单轴延伸A板的基材的至少一表面上、或涂布于基材的至少一表面上再延伸，形成C+A板型光学补偿膜。
基本信息
专利标题 ：
光学补偿膜及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101000382A
申请号 ：
CN200610001244.7
公开（公告）日 ：
2007-07-18
申请日 ：
2006-01-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李光荣王丹青邵明建庄毓蕙
申请人 ：
力特光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
台湾省桃园县平镇市平东路659巷37号
代理机构 ：
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
寿宁
优先权 ：
CN200610001244.7
主分类号 ：
G02B1/04
IPC分类号 ：
G02B1/04 G02F1/1335
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/04
由有机材料制成的
法律状态
2009-12-16 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-09-12 ：
实质审查的生效
2007-07-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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